关于二氧化硅陶瓷靶材的烧结

 　 二氧化硅陶瓷是一种具有耐高温不沾铝，强度高，不脱层，而且使用寿命长的材料，得以在很多场合都有广泛的应用，其中在靶材烧结中得以应用，所以为了更好的帮助大家了解，接下来就其进行详细介绍。

　　二氧化硅陶瓷通过添加SiO2超微粉末，成功地实现了SiO2陶瓷的低温烧结。在12 50°C的温度下，获得了密度接近理论值的高纯SiO2陶瓷靶材、对于不同微粉含量的靶材进行了断口形貌分析及其密度的比较。实验结果证明，超微粉的添加对SiO2低温下的致密烧结有明显的促进效果。

　　1、常压烧结法制备ZnO陶瓷靶材。
　　2、常压烧结制备氧化钨陶瓷靶材的致密化研究。
　　3、钛酸铋陶瓷靶材的热压烧结。
　　4、成型压力对GZO陶瓷靶材无压烧结致密化的影响。
　　5、放电等离子体烧结下Nb掺杂量对TiO_ 2陶瓷靶材性能的影响。
　　以上就是关于二氧化硅陶瓷靶材的烧结介绍，根据其介绍，可对这一方面有个很好的了解，从而为后期产品的使用提供有效的帮助。