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1、可在1650度以下使用,分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明的是拉制大直径单晶硅,是发展大规模集成电路必不可少的基础材料。当今,世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明石英坩埚。它具有高纯度、耐温性强、尺寸大、精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点。
2、不能和HF接触,高温时,较容易和苛性碱及碱金属的碳酸盐反应。
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